科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備

產(chǎn)品簡介

科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備，觸摸屏控制，可調節(jié)功率和蒸鍍時間，配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間，保護樣品

產(chǎn)品型號：KT-Z1650CVD

更新時間：2024-03-27

廠商性質：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品分類

材料樣品處理

真空回流焊爐冷阱電解槽小型蒸鍍儀小型濺射儀等離子清洗機

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品牌	鄭科探	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應用領域	綜合

科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備，小型蒸鍍儀鄭州科探KT-Z1650CVD，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

原樣品沒有鍍膜 115A 100秒機械泵

115A 100秒分子泵抽12分鐘 115A 120秒分子泵抽20分鐘

真空度越高越不易氧化越接近金屬本色

科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備?KT-Z1650CVD

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
最大功率	≤1200W
最大輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （最大可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）